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商品NO
機器名称
年代
仕様
モデルNO
メーカー名
税別価格 (円)
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:SiH2Cl2 流量:200SCCM 665:堀場エステック Stec
15726  SEC-4400MC-UC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CHF3 流量:100SCCM 665:堀場エステック Stec
15727  SEC-4400ーMO 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CHF3 流量:100CCM 665:堀場エステック Stec
15728  SEC-4400RC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CHF3 流量:200CCM 665:堀場エステック Stec
15729  SEC-4400RC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:BCI3 流量:200CCM 665:堀場エステック Stec
15730  SEC-4400MC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:HCI 流量:2SLM 665:堀場エステック Stec
15731  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:HBr 流量:100SCCM 665:堀場エステック Stec
15732  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CH3OH 流量:100CCM 665:堀場エステック Stec
15733  SEC-4401M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CCI4 流量:50SCCM 665:堀場エステック Stec
15734  SEC-4400-RC 30,000