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商品NO
機器名称
年代
仕様
モデルNO
メーカー名
税別価格 (円)
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:SiH2Cl2 流量:200SCCM 665:堀場エステック Stec
15726  SEC-4400MC-UC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CHF3 流量:100SCCM 665:堀場エステック Stec
15727  SEC-4400ーMO 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CHF3 流量:200CCM 665:堀場エステック Stec
15729  SEC-4400RC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:BCI3 流量:200CCM 665:堀場エステック Stec
15730  SEC-4400MC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:HBr 流量:100SCCM 665:堀場エステック Stec
15732  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:CH3OH 流量:100CCM 665:堀場エステック Stec
15733  SEC-4401M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:20%SiH4/He 流量:2LM 665:堀場エステック Stec
15738  SEC-310 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:2%B2H6/N2 流量:1LM 665:堀場エステック Stec
15739  SEC-F440M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー(MFC) ガス:1%B2H6/Ar 流量:1LM 665:堀場エステック Stec
15740  SEC-410 30,000