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スパッタ装置
スパッタリング CFS-4EP-LL
芝浦メカトロニクス 管理番号 AX-000139
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仕様・詳細
| 機器名 | スパッタリング |
|---|---|
| メーカー | 芝浦メカトロニクス |
| 型式 | CFS-4EP-LL |
| 仕様 | カテゴリー:半導体中古装置（前工程）, 成膜装置, スパッタリング装置 / 仕様（日本語）:チラー 付属1台 型式：CH-402BF 基板：フェライト サイズ：８インチ 成膜材料：Pt, Au, Cr, Sio2, Al, ITO 膜厚分布：±５％以内 到達圧力：5×10⁻⁴Pa 加熱温度：最大300℃ 本体寸法：1250×820×1520 mm 本体重量：650Kg 仕様書、取説書あり |
| 製造番号 | FFT0211 |
| 数量 | 1 |
| カテゴリー | 真空機器 |
| 管理番号 | AX-000139 |
| 掲載日 | 2026-08-28 |
| 最終取得日 | 2026-10-06 |
参考仕様（型式一般）
メーカーの公開資料などをもとにAIが調べた、この型式の一般的な仕様です。現品の状態・付属品・改造の有無は上の仕様欄と写真でご確認ください。誤りにお気づきの際はお問い合わせよりお知らせください。
| 基板サイズ | φ2インチ |
|---|---|
| スパッタ方式 | マグネトロンサイドスパッタ(3源、DC切替) |
| ターゲット・基板間距離 | 85 mm |
| 基板テーブル | φ200 回転・加熱・逆スパッタ式 |
| 基板加熱温度 | 最高300 ℃ |
| 膜厚分布 | ±10 % |
| 到達圧力 | 5×10⁻⁴ Pa |
| ロードロック室排気時間 | 大気開放3分後、10分で7×10⁻³Pa |
| 成膜室内寸法(W×H×D) | 315×317×228 mm |
| ターボ分子ポンプ排気速度 | 220 L/s |
| 油回転ポンプ排気速度 | 300 L/min |
| スパッタ電源 | DC 500W / RF 500W(オートマッチング付、テーブル逆スパッタ用) |
| 電源 | AC200V 3φ 50Hz 約10kVA |
| 質量 | 約600 kg |
| 外形寸法(W×D×H) | 1250×1200×1520 mm |
出典: メーカー資料
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商品ID: 9756
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