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投影露光装置
ウシオ電機 Ushio 型式 UX-44101SC－ND02 管理番号 SX-K045-0003
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仕様・詳細
| 機器名 | 投影露光装置 |
|---|---|
| メーカー | ウシオ電機 Ushio |
| 型式 | UX-44101SC－ND02 |
| 仕様 | カテゴリー:半導体中古装置（前工程）, 露光装置, ステッパー / 仕様（日本語）:ＭＥＭＳの研究開発・製造向けに最適化した一括投影露光装置「UX4 （ユーエックス・フォー）UX4は、マスクやワークにダメージを与えない完全非接触の一括投影露光方式を採用しており、段差のある基板や厚膜レジストなどに対応した露光装置です。MEMSやパワーデバイスなど、製造するデバイスに合わせてカスタマイズした装置をシリーズ展開しており、裏面アライメントや両面同時露光などの各種機能が搭載可能一括全面露光 ウェハサイズ：4インチ(φ100mm) 最小解像度：2μmL/S 総合重ね合わせ精度：±1.0μm L/S 露光波長：i線 スループット：120WPH オプション：EFEM対応、マスク自動搬送、SECS/GEM オンライン対応、AGVロボット対応、レジストコータ/デベロッパ装置とのインライン対応 |
| 製造番号 | 1507001 |
| 数量 | 1 |
| 管理番号 | SX-K045-0003 |
| 掲載日 | 2026-08-27 |
| 在庫情報の最終確認 | 2026-08-28 |
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